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主要產(chǎn)品: 光刻機（針尖/電子束光刻機EBL，紫外光刻機，激光直寫光刻機），鍍膜機（磁控濺射機，電子束蒸發(fā)機，化學(xué)沉積機，微波等離子沉積機，原子層沉積機ALD），等離子刻蝕機ICP/RIE，去膠機，雙光子微納3D系統(tǒng)，準(zhǔn)分子激光器，化學(xué)液體顆粒度儀（純水，空氣）， 原子力顯微鏡，電子顯微鏡/FIB-SEM，超聲波掃描顯微鏡， 開封機，太陽能吸收率發(fā)射率檢測儀，紫外臭氧清洗機，UV清洗機，晶圓清洗機等；配件/耗材：光刻機曝光燈，E-Chuck卡盤，光刻膠/UV膠，晶圓/硅片/外延片，UV清洗燈等。